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等离子刻蚀,
去胶 ICP, RIE, and Ashing Systems |
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应用领域:IC
pilot line, R&D lab, LED, MEMS, solar
cell, photonics, display.
设备特性:ICP, RIE,
以及 Plasma ashing 离子刻蚀, 去胶, 表面清洗等工艺设备. |
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赛伦科技致力于半导体电子技术研究开发、技术咨询和设备销售,总部位于美国加洲硅谷中心的赛伦多佳市,并在北京和上海设有销售和服务中心。
赛伦科技与十几家国际著名设备生产厂商在中国地区有着广泛的合作,具有深厚的技术实力和行业背景。赛伦科技可为中国的生产企业、高校和科研机构提供包括半导体设备、材料、生产工艺和器件等多方面的技术支持。
赛伦科技代理销售的工艺设备及检测设备,
已被众多国内外生产企业、大学、和科研机构选购,广泛应用于 IC Fab (Si、GaAs等)、Solar
Cell、LED、 MEMS、 FPD、以及 Photonics 等方面的生产和科研。
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